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Ciência e Tecnologia de Filmes Finos

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Coordenador: Antonio Ricardo Zanatta
E-mail: zanatta@ifsc.usp.br

Envolve o preparo de novos compostos semicondutores (ou dielétricos) a partir de técnicas assistidas por plasma. Justamente em função das características da técnica de deposição (sputtering de rádio frequência) permite o preparo de materiais com diferentes estruturas (amorfa, micro- ou nano-cristalina) sob as mais variadas composições (desde os níveis de dopagem até a formação de ligas compostas). A síntese destes materiais é seguida pela sua análise composicional-estrutural-eletrônica, mediante o emprego de técnicas de espectroscopia óptica.

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